镀铜液的控制

电镀铜槽液化学成分的控制可以通过自动添加系统及化验分析补充来进行控制，以维持镀液的正常比例。

镀液净化处理

有形杂质：平时通过棉芯持续过滤及保养时进行洗缸处理；
无机杂质：可通过强弱电解拖缸的方式来处理；
有机杂质：通过活性碳芯过滤及活性碳+双氧水来碳处理。

镀铜槽液分析及测试

镀铜槽液的分析方法

硫酸(H₂SO₄)
 分析方法
  1. 取样2ml置于250ml锥形瓶内，加50ml纯水；
  2. 加入3~4滴甲基橙(MO)指示剂；
  3. 用1.0N的氢氧化钠标准溶液(NaOH=1.00mol/L)滴定至由红色变为黄色为终点，记录滴定ml数为A。
 计算方式：H₂SO₄(g/L)=A×24.5

硫酸铜(CuSO₄▪5H₂O)
 分析方法：
  1. 取槽液1ml置于250ml锥形瓶内，加50ml纯水；
  2. 加入25ml的PH=10缓冲溶液，混合均匀；
  3. 加入3~4滴PAN指示剂；
  4. 用0.05mol/L的EDTA标准溶液滴定由蓝色变为草绿色为终点，记录滴定ml数为A。
 计算方式：硫酸铜(g/L)=A×12.39

氯离子(Cl^-)
 分析方法：
  1. 取槽液25ml置于250ml锥形瓶内，加入30ml纯水；
  2. 依序分别加入1:1硝酸(HNO₃)20ml、0.1N的硝酸银(AgNO₃)3~5滴;
  3. 用0.01N硝酸汞[Hg(NO₃)₂]标准溶液滴定至澄清为终点，记录滴定ml为A。
 计算方式：氯离子(ppm)=A×(355÷25)

赫氏槽片分析

研究镀液主要组份和添加剂的影响；
可显示不同电流密度下的镀层质量；
快速分析镀液产生故障的原因。

哈林槽试验

模拟生产线实际镀液工作状态；
实验室评估镀液深镀能力的最佳方法；
用于关键工艺参数的筛选试验。

CVS-循环伏安剥离法

CVS是英文Cyclic Voltammetric Stripping的简称，采用电化学分析手段对镀液进行管理。可以精准地定量测定镀液中有机添加剂浓度及监控电镀溶液污染的程度，为研究、优化新的电镀技术提供条件。