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高频基材混压印制板的ICD问题探讨

cuinew PCB技术 0

前言

随着信息化科学技术的发展和人们日益要求信息处理传递的高速化,客户端对于高频高速材料的需求量逐年增加,同时因高频高速材料的特殊性,对PCB加工厂家的制程来说提出了更高的挑战和高水准的加工要求。随着PCB使用温度的升高,高频高速材料Z轴的膨胀程度也在加大,孔铜所承受的应力也增大,所以内层铜与孔铜断裂的风险提高,在客户端过回流焊后出现内层连接缺陷(ICD:Inner connection defects)问题。

原理分析:高频材料板料比普通FR-4板材而言,高频材料介质层树脂填料比较多,其填料物理属性比较硬,钻孔生产钻针磨损较大,孔壁粗糙度及钻针摩擦高温凝胶过多,易造成钻孔后孔壁异常。传统的化学除胶即使过二次也很难除胶干净从而导致ICD不良产生。 

我公司生产料号S45GN187G1在电测试和客户端出现批量性开路问题,比例高达70%,严重影响了产品良率和交期。接到问题反馈后技术部对不良板进行追线切片分析,发现ICD(正交实验设计)问题导致批量性开路,对此问题将进行DOE测试,找到真因并进行改善,不良现象如图1。

ICD问题切片纵切面图例

1 试验过程

1.1 高频高速材料选择

高频高速材料选择耐热性好、信赖性好、加工性能好、Z轴膨胀系数小、选用Tg≥200 ℃的高频高速板料及半固化片。故在选择材料时需要综合考虑,表1为不同厂家材料性能从板材Tg值(玻璃转化温度)、Td值(热分解温度)、X-Y-Z轴膨胀系数、T260-T288耐热性、Dk值(介电常数)、Df值(介质损耗)、剥离强度、吸水率几个方面进行综合评估,板材评分高低依次为B材料>C材料>D材料>A材料,按照此评估结果最终选择了B材料进行PCB的制作。

表1 不同厂家高频高速材料性能指标对比

评估项目
单位
A材料
B材料
C材料
D材料
Tg(DSC) 

195
220
210
200
Tg(TGA-ASTM)

350
360
350
350
CTE-X-axis(amb-Tg)
%/℃
0.0013
0.0013
0.0013
0.0013
CTE-Y-axis(amb-Tg)
%/℃
0.0014
0.0014
0.0014
0.0014
CTE-Z-axis(50-260)
%
3.0
2.6
3.4
3.1
T-260(TMA)
min
>60
>60
>60
>60
T-288(TMA) 
min
>15
>30
>20
>20
Dk(1MHz)
---4.8
4.3
4.6
4.7
Df(1MHz)
---0.023
0.015
0.016
0.018
剥离强度(1oz)
N/mm
0.96
1.4
1.2
1.2
吸水率
%
0.2
0.061
0.08
0.12
板料综合评分
---
7分
10分
9分
8分

1.2 试板信息 

此PCB为22层多层板,中间L10/L11和L12/L13是FR-4基材,其余均高频基材,板材尺寸500 mm×600 mm,压合结构见图2,板厚(5.8±0.38 )mm。孔到线间距0.175 mm,表面涂饰化学镀金。

压合结构设计图例

1.3 钻孔部分试验设计

1.3.1 钻孔试验方案

试验验证不同叠板层数、钻针磨次、钻针寿命、钻孔参数等因子对孔壁质量的影响。见表2。

表2 钻孔参数与结果

试验条件
叠板数
钻针磨次
孔限
钻孔参数
钉头(结果)
孔粗(μm)
判别
条件11全新
500
正常
1.08
7.8
OK
条件21全新
500
降15%
1.38
10.5
OK
条件31全新
800
正常
1.09
9.6
OK
条件41全新
800
降15%
1.33
12.6 
OK
条件51磨1
500
正常
1.52
20.1
NO
条件61磨1
500
降15%
1.63
32.4
NO
条件71磨1
800
正常
1.72
36.2
NO
条件81磨1
800
降15%
1.88
32.5
NO

1.3.2 钻孔试验结果与分析

钻孔试验结果见表2。小结:条件1、2、3、4的孔粗、钉头均满足要求;而条件4、5、6、7、8不符合要求。 

1.3.3 不同钻孔生产条件对孔粗的影响

相同生产钻孔条件下,孔粗变化:随着叠板层数的增加而增大;随着钻头使用时间的增加而增大;随着钻头磨次的增加而增大;随着参数降低的增加而减小(图3)。 

03

1.3.4 不同钻孔生产条件对钉头的影响

相同生产钻孔条件下,钉头变化:随着叠板层数的增加而增大;随着钻头寿命的增加而增大;随着钻头磨次的增加而增大;随着参数降低的增加而减小(图4)。 

钻孔条件对针头影响趋势图

1.4 除胶部分试验设计

从高频高速材料物理特性可知,其基材偏软且软化点低,钻孔加工过程中的钻削高温易使钻针切屑软化、粘附成团,造成入钻排屑不畅而形成间歇性的挤出排屑,切屑易被挤压粘附在孔壁上,极大的增加了后工序除胶处理难度,存在孔内残胶风险即ICD问题。据了解,高频高速板材的基板具有低Dk、低Df的特性,其极性小,材料活性低,去除胶渣困难,从而进一步加大了孔内残胶对PTH电镀的影响。本次实验通过充分结合其板材特殊性,从钻孔选用最优的参数组合基础上选择除胶方案。

1.4.1 除胶试验方案

除胶试验方案见表3所示。

表3 除胶参数

试验条件
除胶方式/化学除胶
Plasma
烤板条件
PTH+板电
条件111190℃×2h
正常流程
条件211175℃×2h
正常流程
条件312190℃×2h
正常流程
条件4//2175℃×2h
正常流程
条件5//1175℃×2h
正常流程
条件61//190℃×2h
正常流程
条件7
垂直1次
1
190℃×2h
正常流程

1.4.2 等离子体除胶参数

等离子体除胶参数见表4所示

表4 等离子体除胶参数

Step
CF4
O2
N2
H2
Ar
RF Watts
Pressure(Pa)
Setpt(℃)
Seg.Time(min)
101500100000800026.770 
5
2200200030000700026.770
50
3001000
500
0
4000
26.7
70
5

1.4.3 除胶试验结果

不同条件下除胶效果确认见图5。

不同条件下除胶试验效果对照表

通过采用水平化学除胶、垂直化学除胶、Plasma、烤板等几个因子进行除胶对比测试,同时对除胶量进行监控,最终确定了条件1、条件2、条件3三组除胶方案均可满足要求。通过测试切片,钻孔后、除胶后、电镀后均未发现除胶不净和ICD的问题,见图6。

PCB满足要求的孔内互连示意图

结语

高频高速材料因为其材料的特殊性(填料较多),其介层树脂物理特性比较硬,对钻孔和除胶工序制程提出了更高的挑战,控制不好便会产ICD问题。本文通过对ICD问题从高频高速材料选择、压合叠构设计、钻孔参数优化、除胶参数验证等各方面进行试验验证,从而解决高频高速混压材料ICD问题。以上为我公司在高频高速混压材料在改善ICD制作过程的一些经验分享,希望能起到抛砖引玉的作用,给同行能提供帮助。

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