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膨胀剂H101
1、作用机理 2、工艺流程 3、操作条件 4、设备要求 5、配槽方法 6、生产管理 7、槽液维护 7.1 保养倒槽 7.2 保养换槽 7.3 停产处置 8、分析方法 8.1 膨胀剂H101 8.2 氢氧化钠(NaOH) 9、异常故障 10、安全措施 1、作用机理 膨胀剂H101是一种除胶渣的前处理剂，适用于普通印制线路... -
活化剂H908
1、产品简介 2、工艺流程 3、操作条件 4、设备要求 5、配槽方法 6、生产管理 7、槽液维护 7.1 保养方法 7.2 停产处置 8、药水分析 8.1 钯离子(Pd2+) 8.1.4 管控范围 8.2 pH值 9、故障异常 10、安全措施 1、产品简介 活化剂H908为碱性离子钯体系，由于Pd2+呈正电荷性且粒子小... -
化学铜H108系列
1、产品简介 2、工艺流程 3、操作条件 4、设备要求 5、配槽方法 6、生产管理 7、槽液维护 7.1 保养方法 7.2 停产处置 8、分析方法 8.1 铜离子(Cu2+) 8.2 氢氧化钠(NaOH)、甲醛(HCHO) 9、故障异常 10、安全措施 11、废水处理 1、产品简介 化学铜H108为一种低温度操作、低沉... -
膨胀剂H201
1. 作用机理 2. 工艺流程 3. 操作条件 4. 设备要求 5. 配槽方法 6. 生产管理 7. 槽液维护 7.1 倒槽方法 7.2 换槽方法 7.3 停产处置 8. 分析方法 8.1 膨胀剂H201 8.2 碳酸钠(Na2CO3) 9. 故障异常 10. 安全措施 1. 作用机理 膨胀剂H201是一种有机溶剂，适... -
还原剂GT
1 产品简介 2 工艺流程 3 操作条件 4 设备要求 5 配槽方法 6 生产管理 7 槽液维护 7.1 保养方法 0.7.2 停产处置 8 药水分析 8.1 还原剂GT 8.2 硼酸(H3BO3) 9 故障异常 10 安全措施 1 产品简介 还原剂GT为一种高效而稳定的还原剂，可将吸附在孔壁上的离子钯迅速还原为金属钯，... -
除胶渣
1 作用机理 2 工艺流程 3 操作条件 4 设备要求 5 配槽方法 6 生产管理 7 槽液维护 7.1 保养倒槽 7.2 保养换槽 2.7.3 停产处置 8 分析方法 8.1 Mn7+、Mn6+ 8.2 氢氧化钠(NaOH) 9 故障异常 10 安全措施 1 作用机理 利用碱性高锰酸钠溶液的强氧化性咬蚀膨松后的孔壁，... -
预浸剂H907
1 产品简介 2 工艺流程 3 操作条件 4 设备要求 5 配槽方法 6 生产管理 7 槽液维护 7.1 保养方法 7.2 停产处置 8 故障异常 9 安全措施 1 产品简介 做为保护后续活化槽的流程，能防止板子带杂质及污物进入昂贵的活化槽，提高活化槽的工作寿命。 2 工艺流程 3 操作条件 项 目 名 称 ... -
还原剂GT
1、产品简介 2、工艺流程 3、操作条件 4、设备要求 5、配槽方法 6、生产管理 7、槽液维护 7.1 保养方法 7.2 停产处置 8、药水分析 8.1 还原剂GT 8.2 硼酸(H3BO3) 9、故障异常 10、安全措施 1、产品简介 还原剂GT为一种高效而稳定的还原剂，可将吸附在孔壁上的离子钯迅速还原为金属钯，可有... -
预浸剂H907
7、产品简介 2、工艺流程 3、操作条件 4、设备要求 5、配槽方法 6、生产管理 7、槽液维护 7.1 保养方法 7.2 停产处置 8、故障异常 9、安全措施 7、产品简介 做为保护后续活化槽的流程，能防止板子带杂质及污物进入昂贵的活化槽，提高活化槽的工作寿命。 2、工艺流程 3、操作条件 项目名称 条件...
